Die Vorstrukturierung einer Oberfläche, um lokal angeordnete Nanostrukturen zu erhalten, wird üblicherweise durch Verwendung komplexer Strukturierungstechniken wie Elektronenstrahllithographie, fokussiertem Ionenstrahlätzen oder Ionenimplantation erreicht. Solche Techniken können jedoch Kristallschäden und Defekte verursachen, wodurch Qualität und Leistung der nanostrukturierten Elemente verringert werden. Ein weiterer Nachteil besteht darin, dass diese Techniken nur eine Nahwirkung haben und somit nicht für eine schichtweise Verarbeitung geeignet sind.
Technische Beschreibung
Durch Wissenschaftler der TU Berlin wurde nun ein Verfahren entwickelt, welches auch die Herstellung von Schichten mit lokal angeordneten Nanostrukturen ermöglicht. Dazu wird eine verdeckte und selektiv modifizierte Unterschicht verwendet, in der das Wachstum von Nanostrukturen auf der Oberfläche mittels lateral inhomogener Spannungsverteilung gesteuert wird. Für die Strukturierung werden dabei Standard-Lithographie-, Ätz- oder auch Oxidationstechniken genutzt.
Anwendungsmöglichkeiten
Mit dieser Methode können Licht emittierende Vorrichtungen ebenso wie Einzelphotonenemitter aufgebaut werden. Es ermöglicht auch Quantenkryptographie und -kommunikation.
Zeigt die belastungsinduzierte Bildung von Quantenpunkten
Vorteile
Keine Defekte in unmittelbarer Nähe der Nanostrukturen
Verwendung herkömmlicher Strukturierungsmethoden
Elektrische Adressierung einzelner Nanostrukturen
[...] weitere Vorteile online
Technischer Reifegrad
Nachweis der Funktionstüchtigkeit einer Technologie (PoC) (TRL: 3)
